亚微米级光连接技术作为光通信领域的重要一环，其性能和精度要求越来越高。为了满足这些需求，亚微米级光连接技术的研究和开发逐渐成为业界关注的焦点。
首先，IEEE802.3标准规范了光功率分布中的光连接器最大接插损耗，全温度、全湿度、全寿命、粉尘、震动及各种恶劣环境下，损耗为0.7dB。因此，连接器插损指标出厂时一般要求在典型值0.2dB。
亚微米级光连接技术的性能衡量指标主要包括衰减光纤的对中几何尺寸，而几何精度又取决于装配精度和其它零部件尺寸精度。为了降低光学损耗，需要严格控制横向错位误差，因为这是造成光学损耗的最大杀手。
在超精密加工方面，亚微米级光连接技术主要涉及多种加工种类，如磨削、抛光、电火花加工等。图4展示了亚微米光连接技术中的超精密加工种类。
目前，我国亚微米级光连接技术在超精密加工方面已取得显著进展。如图5所示，亚微米光连接技术中超精密加工极限不断提高，加工容限水平也在不断优化。
为了满足市场需求，我国亚微米级光连接技术产品正在逐步摆脱依赖进口的局面，形成了基本的大规模制造供应链。这一成果将有助于我国光通信产业的发展，提升我国在全球光通信市场的竞争力。
总之，亚微米级光连接技术作为光通信领域的重要技术，正不断取得突破。在技术创新、产业升级的背景下，我国亚微米级光连接技术有望实现跨越式发展，为我国光通信产业的繁荣做出贡献。
引言：在移动互联网、下一代互联网（NGN）、“三网融合”、IPTV等新兴市场机会的推动下，光传输网络进行大规模的升级和改造，中国的光通信产业迎来了史无前例的发展机会。
同时国家政策的支持对信息产业的大力发展也产生了促进作用，“十二五”规划明确提出了光纤宽带战略性大规模发展的目标。电信运营商大幅加快光纤入户宽带建设和用户发展，光通信产业在“十二五”期间将有爆发性的增长。
随着FTTH的迅速普及以及数据中心的大规模部署，光连接器作为亚微米级高精度定位所必需的部件，机会逐渐增多，亚微米光连接技术迅速发展。当前，中国的亚微米光连接技术产品已基本摆脱依靠进口的局面，基本形成大规模制造供应链。
亚微米级光连接技术指标：
亚微米级光连接技术由IEEE802.3标准规范引导，它规范了光功率分布中的光连接器的最大接插损耗：全温度、全湿度、全寿命、粉尘、震动及各种恶劣环境下，0.7dB。因此，连接器插损指标出厂时一般要求在典型值0.2dB。
图1，IEEE802.3标准规范引导光功率损耗分布
（C114注：本文所有图片均由同星光电提供）
亚微米级光连接性能衡量指标主要有：衰减光纤的对中几何尺寸，几何精度又决定于装配精度和其它零部件尺寸精度。如下图所示：大于微米横向错位误差是造成光学损耗最大杀手。
图2，横向错位误差是造成光学插损计算
图3，理论和实验证明亚微米是光连接最佳耦合区
亚微米级光连接技术要素
超精密加工种类：指标如下图所示：
图4，亚微米光连接技术中超精密加工种类
超精密加工容限水平及进展
图5，亚微米光连接技术中超精密加工极限
